PEALD 내용 정리 02
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13.56MHz??
PEALD(Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition) 공정에서 RF 주파수는 플라즈마 특성과 박막 품질을 결정하는 핵심 변수라고 한다. 13.56 MHz가 표준으로 사용되며, 이의 정수배 (예: 27.12 MHz, 40.68 MHz, 162 MHz)도 활용된다고 한다. 13.56 MHz가 표준으로 사용되는 이유와 공정에 어떤 영향을 끼치는지 Perplexity를 사용해서 찾아보았다.
1. 13.56 MHz 사용 이유
(1) 전자기파 간섭 방지
- 13.56 MHz는 ISM 밴드(Industrial, Scientific, Medical Band)로 할당된 주파수로, 통신 시스템과의 간섭 없이 산업용으로 자유롭게 사용 가능
- 국제 규격(FCC 규정)에 따라 전자기파 간섭을 최소화하기 위해 선택
(2) 플라즈마 특성 균형
- 플라즈마 밀도 vs. 이온 에너지:
- 13.56 MHz는 높은 플라즈마 밀도와 적절한 이온 에너지를 동시에 확보할 수 있는 최적 지점
- 고주파(>13.56 MHz): 플라즈마 밀도 ↑, 이온 에너지 ↓ → 미세 구조 보호에 유리
- 저주파(<13.56 MHz): 이온 에너지 ↑ → 기판 손상 리스크 증가
(3) 공정 안정성
- 13.56 MHz는 임피던스 매칭이 용이하여 전력 손실을 최소화하고, 플라즈마 불균일성을 방지
- 산업계 표준 장비와 호환성이 높아 유지보수 및 확장이 쉬움
2. 13.56 MHz 정수배(27.12, 40.68, 162 MHz 등) 사용 이유
(1) 고밀도 플라즈마 구현
- 주파수 증가 → 전자 가속 효율 ↑ → 플라즈마 밀도 ↑
- 예시: 162 MHz(13.56 × 12) 사용 시, 13.56 MHz 대비 플라즈마 밀도 10배 증가 (1.06×10¹⁰ → 1.06×10¹¹ cm⁻³) 1
- 고밀도 플라즈마는 전구체 분해 효율을 높여 불순물 감소 및 균일성 개선에 기여
(2) 이온 에너지 제어
- VHF(Very High Frequency) 영역(30–300 MHz)에서:
- 이온 에너지 분포가 좁아지고, 평균 에너지가 감소 → 표면 손상 최소화
- 데이터: 162 MHz에서 Vp-Vf(이온 에너지 지표)가 13.56 MHz 대비 50% 감소 1
(3) 고종횡비 구조 충진 개선
- 고주파 플라즈마는 긴 전자 거동 주기로 인해 고종횡비 트렌치 내부까지 침투 가능:
- 162 MHz PEALD SiNₓ는 15:1 종횡비 구조에서 94.8% 스텝 커버리지 달성 (13.56 MHz 대비 34.6%) 1
(4) 하모닉 간섭 방지
- 정수배 주파수 사용 시 하모닉 주파수 간 상호 간섭이 발생하지 않아 공정 안정성이 유지됩니다.
- 예시: 13.56 MHz 기반 시스템에서 27.12 MHz(2차 하모닉)를 추가하면, 주파수 겹침 없이 독립적 제어 가능
3. 주파수 선택에 따른 공정 결과 비교
주파수 | 플라즈마 밀도 | 이온 에너지 | 스텝 커버리지 | 적용 분야 |
---|---|---|---|---|
13.56 MHz | 중간 | 중간 | 34.6% (15:1 구조) | 범용 로직/메모리 |
162 MHz | 높음 | 낮음 | 94.8% (15:1 구조) | 3D NAND 고종횡비 충진 |
4. 내용 요약
- 13.56 MHz는약규제 준수, 플라즈마 안정성, 장비 호환성 측면에서 표준으로 채택
- 정수배 주파수(27.12, 40.68, 162 MHz)는 고밀도 플라즈마와 저에너지 이온을 통해 미세 공정의 한계 극복 가능
- 향후 고HF(30–300 MHz) 및 MMW(밀리미터파) 대역 확대를 통해 극미세 공정 기술이 진화할 전망
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