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Device Physics for Metal ALD · W1 — 전자는 어디에 있고, 얼마나 있고, 얼마나 잘 움직이는가
에너지 밴드, 페르미 준위, 일함수(EWF), 그리고 금속 박막의 저항. Metal ALD 공정 개발자 관점에서 소자 물리의 기초를 세운다.
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HAR structure에서의 ALD step coverage - Process parameter와 mechanism
260702 `ALD Step Coverage - Process parameter & Mechanism`
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HAR 구조에서 Step Coverage를 지배하는 공정 파라미터 - Feeding Time과 Purge Time의 물리적 근거
260624 `Step Coverage in High Aspect Ratio Structures - Why Feeding Time and Purge Time Matter in ALD`
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AI report - ALE & Selective Etch 장비·기술 심층분석 (2023–2026)
260420, AI report - ALE & Selective Etch Advanced Equipment and Tech Analysis (2023–2026)
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Mo ALD 특허 분석 도구를 만들었다 — KIPRISPlus API + Streamlit Cloud 배포
KIPRISPlus Open API를 활용한 몰리브덴 ALD 특허 수집·분류·분석 Streamlit 대시보드 개발기